Metryx将与Intel合作开发20纳米节点半导体工艺
2011-06-17 09:33:30
来源：大比特半导体器件网
摘要： 高精度质量计量技术用于监控淀积工艺和其它引起质量细微变化的工艺步骤，也可以用来监控由于高参杂注入导致光刻胶剥落而引起的硅损耗、衬底损坏等问题。
关键字： Metryx， 20纳米， Intel， 半导体工艺
英国质量计量设备厂商Metryx日前正式加入一项由欧洲厂商主导的半导体设备创新发展评估项目，在此合作框架下，Metryx将和Intel，IMEC等展开深入合作，为20纳米节点半导体工艺开发提供高精度质量计量技术和设备。
高精度质量计量技术用于监控淀积工艺和其它引起质量细微变化的工艺步骤，也可以用来监控由于高参杂注入导致光刻胶剥落而引起的硅损耗、衬底损坏等问题。
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