摘要：  韩国的内存与半导体产业拥有全球领先的技术实力，因此光刻胶企业也非常重视韩国市场。供应韩国企业光刻胶的厂商有2家韩国厂商，包括东进化学、锦湖石油化工，另外有5家日本厂商，包括住友化学、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收购罗门哈斯(Rohm and Haas)的陶氏化学等。

关键字：  半导体，  曝光制程，  核心材料，  光刻胶

在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据DisplayBank统计，2011年用于韩国国内半导体产业的光刻胶量约为25万~30万加仑，产值约达3，000亿韩元(约2.58亿美元)的规模。

其中，用于韩国半导体产业的光刻胶中，KrF(KrF Eximer Laser，248nm曝光)的市占率约达5成，而ArF Immersion(ArF Eximer Laser，Wet制成，193nm曝光)与ArF Dry(ArF Eximer Laser，Dry制成，193nm曝光)的合计市占率约达25%;另外，高价位光刻胶ArF Immersion产品的年销售额，约达1，000亿韩元。

韩国的内存与半导体产业拥有全球领先的技术实力，因此光刻胶企业也非常重视韩国市场。供应韩国企业光刻胶的厂商有2家韩国厂商，包括东进化学、锦湖石油化工，另外有5家日本厂商，包括住友化学、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收购罗门哈斯(Rohm and Haas)的陶氏化学等。

其中，住友化学、TOK、信越、JSR及陶氏化学，在KrF以上等级的产品领域竞争非常激烈，韩国厂商锦湖石油化学对海力士(Hynix)半导体，供应大量的ArF Dry产品以及部分ArF Immersion产品。东进化学虽在LCD用产业光刻胶的供给比例较高，但在半导体领域仍只供应KrF以下等级部分产品。

DisplayBank指出，内存与半导体领域的领导厂商三星电子(Samsung Electronics)与海力士，在技术、销售额、利润及市占率等方面，与日本及台湾厂商的差距越来越扩大，因而韩国市场成为光刻胶产业的重要市场。同时，未来在韩国光刻胶市场上各专业厂商之间的竞争也将会愈演愈烈。

另外，光刻胶除了用于半导体产业之外，也用于显示及LED等产业。其中，LCD产业2010年年平均使用量已超过870万公升，在总使用量中所占比例最大。但LCD产业使用的光刻胶相较于半导体产业仍属较低价产品，因此在供应半导体光刻胶的专业厂商，只有JSR与TOK供应LCD产业用的光刻胶产品，其他厂商则对供应LCD用光刻胶的意愿非常薄弱，而且因产业特性之故，新厂商参与的可能性也微乎其微，因此在未来仍会维持由3家厂商包括东进化学、AZEM、TOK寡占的市场格局。