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SK海力士:将积极为中国引进光刻机
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SK海力士:将积极为中国引进光刻机

2021-11-24 17:56:58 来源:中关村在线

【哔哥哔特导读】SK海力士CEO Seok-hee Lee(李锡熙)近期和媒体沟通了无锡海力士半导体工厂的相关情况。

SK海力士CEO Seok-hee Lee(李锡熙)近期和媒体沟通了无锡海力士半导体工厂的相关情况。

其中关于EUV光刻机的问题,让人关注。李锡熙表示,正与美方合作,进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

据悉SK海力士在无锡工厂引进的光刻机将用于制造10nm DRAM芯片,也就是第四代内存。

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