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作为全球光刻机设备行业龙头，ASML在2023年净销售收入为276亿欧元，净收入为78亿欧元。其中，第四季度EUV光刻机净预订量达到56亿欧元。在2024年，ASML的业绩增长又会迎来怎样的挑战？
本文主要介绍了我国芯片的现状，国产芯片起步慢，发展难，最近美国还对我国华为技术有限公司进行全方位的封锁，尤其是芯片上的封锁，还好我国中兴通讯实现了7nm芯片设计方案的突破和紫光展锐全球第一款6nmEUV工艺制程芯片研发成功。
在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩尔定律的魔力。
使用193nm光刻的半导体发展路线图已经走到尽头，下一代将必定采用157nm光。TI公司前端处理部经理Jim Blatchford刚刚完成一种前沿157nm光刻系统的谈判，但他对这种尚未验证的技术仍然有点担心，因此他想去负责157nm光刻的照片光学仪器工程师协会(SPIE)会务组跑一趟。然而当他到达时，他惊讶地发现房间内几乎空无一人。外面下着倾盆大雨，由于没有通常嘈杂的人声掩盖，这使得他感到非常孤
在半导体制造工艺中尽一切可能延伸光学的缩微方法寿命是十分重要，尽管无论EUV或者EB电子束，由于波长短十分诱人，但是要达到工业化量产水平，尚需时间。所谓”远水解决不了近渴”。因此目前193nm浸入式，加上两次(甚至4次)图形曝光技术及DFM技术等来实现缩微是现实的解决方案。据目前的实践，上述方法己经能实现22-20nm水平，但是能不能突破14nm，尚难预料，因此14nm可能是个拐点。
台系内存厂商在迁移至20nm及更高级节点制程时，可能会由于资金筹措方面的困难抽不出手来购买价格高昂的EUV极紫外光刻设备，而在制程转换技术升级方 面处于不利地位。
