尼康出货全球首款45nm量产用浸没式光刻设备
2007-03-05 09:07:21
来源：半导体器件应用网
日本尼康公司近日宣称，该公司出厂了全球第一款45nm沉浸式光刻系统，即NSR-S610C，这套193nm的沉浸式设备使用了数值孔径为1.30的投影镜头。此套设备主要面向45nm量产工艺，并且可以用于32nm工艺的研发工作。
NSR-S610C设备以尼康专有的沉浸式技术为基础，其采用的局部填充技术（Local Fill Technology）能够消除扫描导致的浸没缺陷、气泡、水渍或晶圆背部玷污。该项技术还能消除浸没液体的蒸发，从而有力于防止由浸液导致的套准问题。此外，NSR-610C的Nikon Tandem Stage采用具有不同功能的双工件台，产能和精度以及长期稳定性均有提高。
尼康精密设备公司总裁Kazuo Ushida表示，2006年尼克沉浸技术取得了重大进步，一月份全球第一套量产应用沉浸式设备NSR-S609B出货。在过去的一年里，通过在各大工厂内的评估，公司沉浸式业务得到了认可，而这次NSR-S610C系统的出货再次巩固了尼康公司在沉浸式技术方面的领先地位。
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