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日本研究无极性GaN结晶,有望实现高效率LED

2007-01-13 09:19:59 来源:半导体器件应用网

    由东京大学、神奈川科学技术学院、三菱化学组成的研究小组在东京面向媒体召开新闻发布会上宣布,以ZnO底板无极性面做为生长面的无极性GaN结晶研制成功。该研究小组表示,利用ZnO底板,能够制备出结晶缺陷较少的高品质无极性GaN结晶。虽然距离制造LED元件还有一段距离,但是,如果采用这种高结晶品质的无极性GaN结晶,制造利用InGaN做发光层的蓝色LED(InGaN系蓝色LED),“有可能制造出外部量子效率超过50%左右的高效率蓝色LED”(东京大学生产技术研究所教授藤冈洋)。而且,以往极难制造的利用InGaN做活性层的绿色、红色、红外线LED也有望实现。按照预定,LED元件将在未来的1年内问世。 

    通过采用无极性面提高效率  

    现在市场上的蓝色LED使用的是蓝宝石底板,GaN在底板上生长利用的是极性面——c面((0001)面)。c面的法线方向(c轴方向)即为生长轴。利用极性面时,因为InN的晶格常数大于GaN,会产生压电极化,生成压电电场。由于发光时通过压电电场注入活性 
层的电子与正孔分离,且再度结合的概率减小,从而导致了发光效率的下降。而利用相应于极性面法线方向的无极性面c面,能够削弱活性层中产生的压电电场的影响。 

  例如,与利用极性面相比,利用底板无极性面制造InGaN系LED具有发光效率高等优势。此次,生长面使用的是m面。目前,利用m面、a面等无极性面的LED的相关研究日趋活跃,以美国加州大学圣塔巴巴拉分校(University of California,Santa Barbara)中村修二教授为中心的研究小组、京都大学和日亚化学工业组成的研究小组、罗姆公司都在积极进行LED元件的研制。 

    使用ZnO底板制造价廉物美的LED  

    无极性InGaN系LED的研究开发使用着各种各样的底板,其中,生成的结晶缺陷最少、品质最高的是GaN底板。但GaN底板“异常昂贵,2英寸需要约100万日元”(东京大学藤冈)。因此,研究小组在价格低廉的基础上,选择了制备出的结晶缺陷较少的ZnO底板。之所以生成的结晶缺陷较少,是因为ZnO的晶格常数非常接近GaN,而且结晶结构与GaN结晶同为纤维锌矿型(wurtzite-type),为六方晶构造。该研究小组注重ZnO的特性,之前已经在ZnO底板上制成了除无极性面之外的GaN膜。比较结晶品质指标——结晶的“衍射角”散乱角可以发现,此次ZnO底板上的无极性GaN结晶仅为0.04~0.07度,小于传统方法制成的无极性GaN结晶0.5度的衍射角。衍射角大小表示结晶缺陷的多少,可见形成的结晶品质非常高。  

    价格方面,2英寸的ZnO底板售价为5万日元,低于GaN底板。而且利用水热合成法量产ZnO已经实用化,在理论上价格甚至能够降到蓝宝石底板以下。  

    利用低温生长解决课题  

    但是,ZnO很容易与GaN发生反应,用传统的气相法在1000℃的高温下制备GaN结晶会加快ZnO和GaN的反应速度,形成化合物,很难得到高品质的结晶。此次,制备结晶主要使用了能够在室温下使GaN成膜的“PLD法”。PLD法是指利用脉冲激光辐照靶材,通过使材料蒸发在底板上形成膜的方式。但一般来说,PLD法与气相法等方法相比,成膜速度较慢。当问到关于量产的可行性时,东京大学的藤冈表示:“我们会把PLD法的生产能力提高到MOCVD法的水平,或者采用其他能够在室温下制备结晶的方法”。除此之外,为了提高结晶品质,在使用PLD法制备结晶前需要进行预处理,平整ZnO底板表面。具体的方式是将ZnO制成的盒状物体围绕在ZnO底板周围,再在1250℃左右进行高温平坦处理。  

    绿色和红色LED  

    除蓝色外,该研究小组还将制造其他利用ZnO底板的InGaN系LED元件,使其分别发出绿色、红色、波长较长的红外线等光线。一般来说,增大发光波长需要增加In的量,但增加In的同时,会出现结晶变形增大、压电电场增强、出现分离反应导致InN难以与GaN混合等现象,波长越长制造高效率LED的困难越大。发生相互分离的原因是In和Ga的原子半径不同。而利用无极性面能够削弱压电电场的影响、通过低温生长抑制分离反应,因此,研究小组认为,可以利用InGaN制造绿色、红色以及红外LED。
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