尔必达在苏州建立300毫米晶圆厂 满足中国市场DRAM需求
2008-08-08 10:16:52
来源：半导体器件应用网
在与其中国晶圆代工伙伴分手后，日本必尔达(Elpida)在中国建立了一家300毫米晶圆厂，其总体资本支出可能达到50亿美元。
尔必达已经与苏州创业投资集团有限公司(SVG)达成2008年底以前在苏州建立合资DRAM工厂的协议。双方打算在苏州工业园建立一家300毫米晶圆厂，以满足中国市场日益增长的DRAM需求。尔必达将持股39%，SVG及潜在的第三方投资者持有另外61%的股份。
该厂将位于一个占地32万平米的区域，预计2010年1至3月将正式投产，初期产能规划为每月4万片晶圆，未来将提高至8万片。该厂初期将采用尔必达的50纳米DRAM工艺，未来条件具备时将尽快转向40纳米工艺。尔必达将购买该厂所生产的全部产品。
据报道，这项合作涉及开发基于电容的DRAM技术。
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