德国Novaled AG开发出可实现CMOS型有机晶体管电路的半导体层
德国Novaled AG开发出了制作CMOS型有机晶体管电路的技术(发表资料,英文)。通过将自主开发的由杂质添加技术形成的并五苯(Pentacene)层,应用于p型及n型两种晶体管的半导体层上而实现。在晶体管的载体迁移率方面,p型及n型均为0.2cm2/Vs。另外,噪音耐受性及待机时的耗电量也有所降低。由于正孔迁移率较高,并五苯通常仅用于p型晶体管的半导体层。
此外,Novaled在2008年8月12~14日于美国加利福尼亚州圣地亚哥(San Diego)举行的“SPIE Optics & Photonics 2008”上,公布了上述杂质添加技术的详情。
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