平行曝光灯是一种在光刻技术中广泛使用的光源设备。光刻是将电路图案从掩模版转移到硅片等基底材料上的关键工艺，平行曝光灯的主要作用是提供高强度、平行度高的光线，使光刻胶在光照下发生化学反应，从而实现图案的转移。 它的基本原理是基于光学中的几何光学原理。光源（通常是汞灯、准分子灯等）发出的光经过一系列光学透镜组、反射镜等光学元件的处理，使得光线在到达光刻胶表面时尽可能地保持平行。例如，在一个典型的光刻系统中，光源发出的发散光先经过一个聚光镜收集并初步会聚，然后通过一组准直镜将光线变为平行光，最后照射到涂有光刻
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