硅薄膜是一种重要的半导体材料，在电子、光伏、显示等多个领域有着广泛的应用。分类： 按制备方法分类：可分为化学气相沉积（CVD）硅薄膜、物理气相沉积（PVD）硅薄膜等。CVD 硅薄膜是通过气态的硅源在高温、等离子体等条件下发生化学反应，在基底表面沉积形成的硅薄膜，如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）硅薄膜等；PVD 硅薄膜则是利用物理过程，如蒸发、溅射等方法，将硅原子或硅离子沉积到基底上形成的薄膜，如磁控溅射硅薄膜等。 按掺杂类型分类：有本征硅薄膜、n 型硅薄膜和 p 型硅薄膜。本征硅薄膜是指纯净的、
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