制备原理与过程： 原理：溅射是一种物理气相沉积技术，在高真空环境下，利用电场和磁场的作用，使被溅射物质（靶材）的原子或分子从靶材表面逸出，并沉积在基底材料上形成薄膜。对于溅射膜电极，通常是将金属或金属化合物等作为靶材，通过溅射过程在特定的基底上形成电极薄膜。 过程：首先，将基底材料清洗干净并放置在溅射设备的腔室内；然后，将纯度较高的靶材安装在溅射源上；接着，抽真空使腔室内达到较高的真空度，以减少气体分子对溅射过程的干扰；通入适量的溅射气体（如氩气等），并施加电场和磁场，使气体被电离形成等离子体。等离子体
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