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中微半导体设备有限公司称已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。在不到一年的时间里，中微的Primo SSC AD-RIE刻蚀设备在韩国领先的半导体制造企业中完成了20纳米及以下关键闪存芯片的生产验证。
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术，在相对较高气压和较高功率条件下，制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料。材料沉积速率随硅烷浓度的增加而增大，通过对材料的电学特性和结构特性的分析得知：获得了沉积速率超过1nm/s高速率器件质量级微晶硅薄膜，并且也初步获得了效率达6.3%的高沉积速率微晶硅太阳电池。
目前用于数字节目制作的手段主要有：数字摄像机和数字照像相机、计算机、数字编辑机、数字字幕机;用于数字信号处理的手段有：数字信号处理技术(DSP)、压缩、解压、缩放等技术;用于传输的手段有：地面广播传输、有线电视(或光缆)传输、卫星广播(DSS)及宽带综合业务网(ISDN)、DVD等;用于接受显示的手段有：阴极射线管显示器(CRT)、液晶显示器、等离子体显示器、投影显示(包括前投、背投)等。
等离子体显示器(Plasma Display Panel，简称PDP)是近几年发展起来的新型板显示器件，它利用气体放电产生的紫外线激发荧光粉发光显示图像。它具有超薄的外形、平面显示、高亮度、宽视解、不受磁场影响等优点，是大屏幕壁挂电视的主流发展方向。
传统制备氮化硅薄膜技术(CVD)存在沉积温度高的缺点，我们采用电子回旋共振-等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术以降低薄膜沉积温度。ECR-PECVD技术具有高离子密度、低离子温度、对基板轰击能量低、沉积温度低等优点。在本文中，我们对不同工艺下ECR-PECVD低温制备的氮化硅薄膜的沉积速率和表面形貌进行了探讨。
据悉，Panasonic此番推出的数字新品包括LCD和等离子体显示，可以被广泛应用在数字标牌、会议室和3D数字应用之上。除此之外，松下还发布了专业的数字投影机，不但能同HDTV产品解决方案和新型Toughbook笔记本电脑完美搭配，还可以被数字用户广泛应用在诸多数字领域中。
在此之前的等离激元器件都只以介于金属和绝缘体(电介质)之间的界面为基础制作。但根据伯克利实验室的这项新的研究成果称，许多常见的半导体也可通过工艺加工而可以传输等离子体。该实验室的报告中也称，在掺杂空穴的半导体纳米晶体——量子点中，实现了表面等离子体共振。
2010年5月24日，德州奥斯汀讯－飞思卡尔半导体日前推出一款RF LDMOS功率管，工作频率为1.8至600 MHz ，最适于在CO2激光器、等离子体发生器和磁共振成像（MRI）扫描仪等应用中所遇到的具有潜在破坏性的阻抗失配条件下使用。
Plasma Flow Slows，等离子体流，增长放缓 iSuppli公司的统计数据显示，等离子面板市场的增长已经开始减速，这是人们担心已久的。
飞兆半导体FDB2614和FDB2710为等离子体显示板提供高效率
