应用材料公司推出适用下一代LCD及OLED新技术
摘要： 应用材料公司日前宣布，推出新的物理气相沉积(PVD)和电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术，促使超高画质(UHD)电视及高像素密度显示屏的行动装置迈向新纪元。
应用材料公司日前宣布，推出新的物理气相沉积(PVD)和电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术，促使超高画质(UHD)电视及高像素密度显示屏的行动装置迈向新纪元。这项重大转型技术的关键是新的金属氧化物与低温多晶矽(LTPS)材料，可用来制造更快速、更小巧的薄膜电晶体(TFT)，适用于液晶显示器(LCD)和有机发光二极体(OLED)技术。 Applied AKT-PiVot?物理气相沉积和Applied AKT-PX电浆强化化学气相沉积薄膜沉积系统为面板业者提供高效能、符合成本效益的途径，带动先进材料的量产。
应用材料公司集团副总裁暨显示器事业群总经理汤姆.艾德曼(Tom Edman)表示：「在过去的20年中，TFT技术的精进，推动显示器产业进行一场最关键的技术转型。应用材料公司开发出通过验证的系统产品组合，协助我们客户技术跃进，进而运用这些新的薄膜。客户利用我们的系统获得出色的成果，应用材料公司业已获得主要显示器制造商的多张订单。
针对采用金属氧化物的TFT，应用材料公司的AKT-PiVot PVD系统使用专属的旋转阴极技术来沉积铟镓锌氧化物(IGZO)，这是具有高电子迁移率的新材料，能形成电晶体通道。 PiVot 系统为显示器产业提供了强大的IGZO 解决方案，能够克服影响显示器品质的显示不均(mura effect) 缺陷，这项问题曾让金属氧化物技术无法成为液晶显示器的主流。此外，由PiVot 沉积的铟镓锌氧化物薄膜突破了TFT 稳定性问题，确保OLED可以使用金属氧化物背板，大幅降低成本，让经济实惠而细致鲜艳的大型OLED电视成为可能。
低温多晶矽(LTPS)技术是一项通过验证的方法，可用来制造行动LCD和OLED装置的最高解析度显示幕，但一直面临玻璃基板放大问题和单位制造成本高昂的挑战。应用材料公司AT-PX电浆强化化学气相沉积系统的全新扩充系列产品，可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉积出极为均匀的LTPS薄膜。这些加大的基板，让面板制造商能够实现经济规模，大幅提高产能并降低成本，同时也让全球各地数十亿的消费者能够享受大型LCD电视。应用材料的系统用于大面积玻璃制造，也有助加速LTPS技术的转型，让行动装置与电视的显示屏变得更大。
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