TI放弃前沿工艺开发,意法、ARM压力增大

2007-02-05 17:32:23 来源:半导体器件应用网

      德州仪器公司决定终止45纳米制造节点的前沿工艺开发,以后将依赖代工。据ABN-Amro Bank分析师Didier Scemama发给客户的信中称,此举将对欧洲电子公司产生重要影响。

      Scemama表示,TI的转向突出了行业发生的海量变革;一些公司如英飞凌科技、CSR和Wolfson Microelectronics已相对有所准备,而ST和ARM却看起来措手不及。

      TI的举动很明显是战略举措,表明代工如今或多或少地追赶上了独立器件制造商(IDMs)的脚步, 因此自行拥有工艺和加工厂已不再是一个差分化的优势。该分析师还写道,此举可能受到诺基亚所暗示的定制硅片开发的需求减少而使用标准芯片组的意愿增加的消息刺激。

      “TI的决定给ST等产品组合缺少IP和系统软件尤其是在无线领域的IDM增添了额外的压力。为了适应,ST可能不得

不加大研发投入或收购行动。简而言之,ST的商业模式不再适应新环境,这使我们对其中期前景保持谨慎。”

      TI放弃前沿工艺开发对ARM也是负面指针,尤其是在其物理IP业务上。Scemama预见“ARM的物理IP业务可能毫无起色。”

      Scemama称,TI的决定可能暗示,诺基亚有意将其数字基带和RF设计开放为标准产品,这将使英飞凌得利。同时,手机工业转向开放平台可能为诺基亚的Wolfson、Sony Ericsson、摩托罗拉等或是通过OEM加工模式或通过ODM外包模式的公司打开商机。

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