Intel、台积电量产在即 应材、科天、ASML、尼康纷推新产品
2007-04-27 09:35:29
来源：半导体器件应用网
随着下半年半导体龙头英特尔(Intel)、台积电纷纷将投产45纳米工艺技术，嗅觉敏锐的半导体上游设备及材料供应商也纷纷展开布局动作竞逐下一波商机，包括全球设备大厂美商应用材料(Applied Materials)及知名光罩检测设备供应商科天(KLA-Tencor)相继宣布于45纳米工艺推出新产品，同时微显影设备供应商尼康(Nikon)也预计今年45纳米工艺机种至少出货20台，与荷兰最大设备商ASML互别苗头意味浓。
应用材料宣布，用于45纳米工艺技术的光罩蚀刻机日前已正式出货，应材蚀刻、清洗暨前段离子事业部资深副总裁Tom St. Dennis表示，这套Tetra III 系统足以支持重要客户生产45纳米及其以下工艺技术；同时主攻光罩检测的设备供应商科天也宣布推出全球第1套45纳米工艺技术的光罩检测系统。
科天表示，半导体工艺技术演进至45纳米，必须要有精密的检测仪器才能撷取 45
纳米节点中的小型缺陷并达成极度复杂的光学接近修正(OPC)，同时这套系统除了能够因应45纳米工艺需求，也具备广泛像素大小可供选择，让客户得以从0.13微米世代工艺一路延伸至45 纳米工艺或以下工艺。
目前科天也与全球最大光罩厂凸版(Toppan Printing)合作，凸版则指出，进入45纳米工艺如此精密的工艺技术，检测技术是最先遇到的困难之一，这次与科天合作，双方能互蒙其利，为客户提供先进光罩，及后端全套的检测技术；科天光罩检测事业部副总裁 Harold Lehon则表示，目前这套系统目前已经获得凸版技术的认可。
由于包括英特尔规划将在下半年投入45纳米工艺生产，晶圆代工厂台积电也将于9月正式量产45纳米、新加坡特许(Chartered Semiconductor)也将于下半年开出共乘列车，因此半导体业者纷纷将最先端产品推入市场。在前段微显影工艺方面，除了ASML之外，包括尼康也预估至少将出货20台以上45纳米显影设备挑战ASML，不过ASML则号称，未来市占率将持续提高至7成，领先竞争对手。
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