富士通在65nm芯片的设计中，将利用明导EDA检测曝光问题点
2007-05-26 09:08:10
来源：半导体器件应用网
美国明导国际（Mentor Graphics）宣布，该公司的DFM工具“Calibre LFD”已经能够用于富士通65nm工艺芯片设计。Calibre LFD是一种EDA工具，可用于寻找在实施曝光中可能会出现问题的掩膜设计。
通过富士通与明导的合作，不仅公司内部的芯片开发人员，连硅代工业务的用户也能够开始使用Calibre LFD。具体来说，提供的是面向65nm工艺的Calibre LFD设计工具包。在发布资料中介绍了富士通市野尚治（技术开发部电子元件业务本部总经理）的发言。
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