“开45nm先河” 英特尔公开新处理器Penryn和Silverthorne
美国英特尔在2007年4月17日于北京开幕的2007年春季开发商论坛(IDF Spring 2007)上,公开了使用45nm工艺技术的微处理器产品系列“Penryn”(开发代号)的试制芯片及投产计划概要。以半导体处理器技术引领企业而自居的英特尔,将当仁不让地开辟45nm工艺的实用化先河。在此次的IDF上,到处充满着英特尔领先前进的气氛。比如,宣布08年将面向超小型个人电脑平台“UMPC(超便携电脑)投放使用45nm工艺的低耗电微处理器“Silverthorne”(开发代号)。
“45nm工艺的实用化具有历史性意义。不再像此前那样单纯追求细微化,而是全面改进晶体管结构。”(英特尔)。 英特尔此次将在45nm工艺方面新引进高介电常数(high-k)栅门绝缘膜和金属栅门。演讲中反复强调了导入新材料的意义。比如,与65nm工艺相比,除可将导通与截止时的耗电减少30%之外,还有助于减少泄漏电流。可将集成度和导通与截止速度各提高至2倍。英特尔今后投产的45nm工艺产品将全部使用新晶体管技术。
英特尔在主题演讲中,还提到了45nm工厂的启动情况。在07年下半年,美国俄勒冈州的“Fab D1D”和亚利桑那州的“Fab 32”将开始投产。另外,在08年上半年,以色列的“Fab 28”将开始投产,在08年下半年,墨西哥的“Fab 11X”将开始投产。
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