光刻胶是一种有机化合物，它是微电子制造过程中的关键材料。光刻胶在光刻工艺中使用，通过光照的方式将掩模（Mask）上的图案转移到涂有光刻胶的衬底（如硅片）上，从而实现集成电路等微观结构的图形化制作。 基本原理：光刻胶的工作基于光化学反应。当光刻胶受到特定波长和能量的光照射时，其内部的化学结构会发生变化。根据光刻胶的类型，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。
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