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随著半导体产业持续成长，2011年全球晶圆厂设备(WFE)的营收可望增加11.7%。英特尔、晶圆代工和NAND支出将带动先进设备的需求，浸润式微影(immersion lithography)、蚀刻与某些二次图样和关键先进逻辑处理相关的沈积部门都将因而受益。
美国新墨西哥大学(University of New Mexico，UNM)的技术授权部门UNM.STC，日前向美国联邦法院控告英特尔(Intel)侵犯该校所持有的双重图形微影(double patterning lithography)技术专利。在6月份时UNM.STC也曾以相同的名义，向美国国际贸易委员会(ITC)控告台积电(TSMC)与三星电子(Samsung Electronics)。
