SiC晶圆是一种采用碳化硅(SiC)材料制造的半导体晶圆。SiC具有优异的物理和化学性能,如高硬度、高熔点、高热导率等,使其成为制造高效、高频、高温和高压器件的理想材料。 SiC晶圆的制造需要经过多个复杂步骤,包括碳化硅单晶生长、外延层生长、器件制造等环节。由于SiC的硬度极高,晶圆的制造过程中需要解决一系列技术难题,如晶圆表面的平整度、缺陷控制、加工精度等。 相比传统的硅晶圆,SiC晶圆具有更高的电子迁移率、更高的热导率、更高的击穿场强和更强的化学稳定性,使得基于SiC晶圆的电子器件具有更高的工作
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