Molecular Imprints 获提供先进光刻机和薄片图案形成服务的合约
摘要： Molecular Imprints， Inc. 今天宣布，该公司已从一家领先的 IC 制造商处获得了一份合约，打造行业首个 450毫米 光刻系统。 此次购买包括一项多年期薄片图案形成服务合约以及其它450毫米纳米压印系统的选择权。
关键字： IC 制造商， 薄片图案， 压印掩膜， 半导体设备
Molecular Imprints， Inc. 今天宣布，该公司已从一家领先的 IC 制造商处获得了一份合约，打造行业首个 450毫米 光刻系统。 此次购买包括一项多年期薄片图案形成服务合约以及其它450毫米纳米压印系统的选择权。Molecular Imprints 的专有 Jet and Flash Imprint Lithography (J-FIL) 技术以及优质 压印掩膜 的商业推出是选择该公司作为行业向450毫米晶圆过渡中坚力量的决定因素。
Molecular Imprints 总裁兼首席执行官 Mark Melliar-Smith 表示：“半导体设备和制造商供应链必须及早获得完全图案化的优质450毫米晶圆，及时开发和优化其产品和工艺，以实现过渡。除了更大的基板尺寸之外，晶圆上日益增加的小设备功能必须能够一直应用到未来，用作原始设备制造商和工艺开发工具。我们的 J-FIL 技术是现在唯一的光刻解决方案，可满足行业向450毫米过渡的广泛需求。我们期待利用我们的能力在所要求的设计规则下及时实现向450毫米的过渡。”
鉴于193i 光刻技术已被强制采用复杂的复式图案制程来制作如今的半导体，极远紫外光刻 (EUV) 又不知何时可以启用，MII 的 J-FIL 技术被用于启动向450毫米的过渡就不足为奇了。J-FIL 已展示了刻线边缘粗糙度 (<2nm LER， 3 sigma) 和临界尺寸均匀性 (1.2nm CDU， 3 sigma) 不同寻常的24纳米图案结构，可扩展至小于18纳米，使用简单的单一图案工艺。J-FIL 通过避免高耗电 x 射线光源、复杂的光学透镜和镜子以及尚未开发的超灵敏光致抗蚀剂实现的内在拥有成本优势使其非常符合450毫米计划重要的生产力目标。
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