专为AI服务器电源优化 | 25V/80V MOSFET双面散热源极朝下封装

新款 MOSFET 专为满足高功率密度及增强型散热应用而设计,采用 DFN 3.3x3.3 双面散热、源极朝下(Source-down)封装,并集成了创新的栅极中置布局技术,能够有效简化 PCB 走线设计,提升系统布板灵活性与电气性能。
日前,集设计研发、生产和全球销售为一体的著名功率半导体及芯片解决方案供应商Alpha and Omega Semiconductor Limited(AOS,纳斯达克代码:AOSL)推出了两款新产品——AONC40202(25V MOSFET)和AONC68816(80V MOSFET)。这两款器件采用了先进的DFN 3.3x3.3双面散热封装技术,源极朝下的设计能够有效提升散热性能。它们专为AI服务器中的中间总线转换器(IBC)DC-DC应用而打造,旨在满足高功率密度需求,并应对数据中心对散热性能的严苛挑战。
AONC40202 和 AONC68816 采用了针对外露漏极触点进行优化的顶部夹片设计,显著增大了双面散热的有效面积,能够更迅速地将热量从散热器中导出,从而有效降低器件运行时的温度。相比传统的单面散热方案,双面散热技术能够从根源上减少热量的产生与热应力,成为设计人员在应对高功耗挑战时的理想选择。得益于配备的大型顶部夹片,这两款 MOSFET 的封装实现了极低的热阻值,其顶部热阻(Rthc-top)最大值仅为 0.9°C/W,确保了在高功率密度应用中的卓越热性能与可靠性。
此外,AONC40202 支持高达 405A 的持续电流,最高结温可达 175°C,这些出色的电气特性为系统级性能带来了多重提升,包括更高效的热管理能力、更高的功率密度支持以及整体运行效率的优化。其采用的“源极朝下”(Source-down)封装技术,不仅增大了 PCB 上的源极接触面积,有助于降低导通电阻和提升散热效果,同时栅极中置的布局设计也大幅简化了 PCB 布线,能够有效缩短栅极驱动器的连接路径,从而进一步提升开关性能和系统可靠性。
随着 AI 服务器对电源性能提出日益严苛的要求,我们推出的这两款最新 MOSFET 正是为了应对这一挑战。它们采用的双面散热 DFN 3.3x3.3 源极朝下(Source-down)封装技术,相较于传统封装方案,在降低功率损耗和提升散热效率方面表现尤为出色。不仅如此,AONC40202 和 AONC68816 还集成了最新的 AlphaSGT™ 硅技术。这种将增强型散热设计与先进硅技术相结合的创新方案,为 AI 电源设计人员提供了一种兼顾高功率密度、优异可制造性与长期应用可靠性的整体解决方案。——Peter H. Wilson AOS MOSFET 产品线资深总监
技术亮点

关于AOS
Alpha and Omega Semiconductor Limited(AOS,中文:万国半导体) 是专注于设计、开发生产与全球销售一体的功率半导体公司,产品包括Power MOSFET、SiC、GaN、IGBT、IPM、TVS、高压驱动器、功率IC和数字电源产品等。AOS积累了丰富的知识产权和技术经验,涵盖了功率半导体行业的最新进展,使我们能够推出创新产品,满足先进电子设备日益复杂的电源需求。AOS的差异化优势在于通过其先进的分立器件和IC半导体工艺制程、产品设计及先进封装技术相结合,开发出高性能的电源管理解决方案。AOS 的产品组合主要面向高需求应用领域,包括便携式计算机、显卡、数据中心、AI 服务器、智能手机、面向消费类和工业类电机控制、电视、照明设备、汽车电子以及各类设备的电源供应。请访问AOS官网 www.aosmd.com,了解更多产品相关信息。
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