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富士胶片开发可涂布的n型有机半导体 并展出试制晶体管

2007-02-27 10:05:47 来源:半导体器件应用网 点击:1244
    富士胶片开发出了n型有机半导体,并在2007年2月21~23日在东京有明国际会展中心举行的“国际尖端表面技术展·会议(ASTEC 2007)”上展出了使用该材料试制的有机晶体管。 

    此次开发的n型有机半导体使用酞菁类材料,在制造工序中能够将其作为液体进行操作。可利用旋涂及印刷等便捷的技术进行涂布。另外,该材料对氧、水蒸气及光照具有较强稳定性,可延长使用该材料的有机晶体管元件寿命。 

    如果少量订购,该公司可供应工业样品。在可涂布的有机半导体中,p型材料较多,n型材料则较少见。在可涂布的n型有机半导体中,富勒烯类材料被业界所熟知,“使用富勒烯类材料的有机晶体管在空气中的劣化严重,在空气中几乎无法工作”(富士胶片解说员)。顺便说一句,ASTEC 2007是与“国际纳米技术综合展·技术会议(nano tech 2007)”同时举办的展会。 

    此次展出的有机晶体管的制造工序如下:首先在p型Si底板上形成栅绝缘膜(SiO2),接着形成源极及漏极,然后再涂布n型有机半导体并使其干燥。阈值电压为17V,获得了超过102的导通/截止比(导通状态和截止状态的电流值比)。载流子迁移率为8.1×10-5。如果是在真空中或N2气环境下,即使放置数月,也不会劣化。空气中的耐久性目前还在评测之中,放置1周后尚未发现明显劣化。
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