运行时间提高35%、容量更大，增加了自动控制驱动设计商生产效率

    全球领先的电子设计自动化（EDA）软件工具领导厂商 Synopsys 今天发布了下一代布局布线解决方案——IC Complier 2007.03 版。该版本运行时间更快、容量更大、多角/多模优化（MCMM）更加智能、而且具有改进的可预测性，可显著提高设计人员的生产效率。

    同时，新版本还推出了支持正在兴起的45纳米技术的物理设计。目前，有近百个采用IC Compiler的客户设计正在进行中，订单金额超过一亿美元。IC Compiler正成为越来越多市场领先的IC设计公司在各种应用和广泛硅技术中的理想选择。2007.03 版的重大技术创新将为加速其广泛应用起到重要作用。

    Synopsys设计产品集团高级副总裁兼总经理Antun Domic 表示：“2007.03版是至今为止IC Compiler最重要的版本，将给数量庞大的用户群带来前所未有的优势。该版本提供先进的核心技术，能够使用户在整个板设计中获益，同时，通过提高MCMM优化和签核驱动时序收敛等主要功能的自动化水平，提高生产效率。”

    IC Compiler 2007.03引入了用于快速运行模式的新技术，在保证原有质量的情况下使运行时间缩短了35%。新技术将16 Gb平台的容量增加到接近1，000万门，有助于用户实现更大的模块划分。该版增加了集成的、层次化的设计规划的早期介入，有助于用户高效处理一亿门级的设计。提高生产能效的另一个关键在于物理可行性流程，它能够使用户迅速生成和分析多次试验布局，以确定具体实现的最佳起始值。

    IC Compiler 2007.03为高级设计引入了自适应性MCMM优化技术，能够在保持精度水平相同的情况下，实现更快的运行速度、更小的内存需求。IC Compiler为设计提供了多角/多模，实现了真正的并行优化，这对高级用户而言是一种巨大的优势。这些用户不能承受其他布局布线工具连续优化对时序安排的影响，或接受低精度技术融合。高级设计也可受益于目前已经提供的IC Compiler签核驱动时序收敛。

    对于新兴的45纳米设计，IC Compiler 2007.03可为前沿用户提供45纳米布局及布线设计规则早期支持，并满足光刻和与化学机械抛光（CMP）有关的金属一致性的需求。目前，Synopsys正在与全球主要半导体厂商合作，为45纳米设计的采用提供生产支持。与90纳米和65纳米设计一样，Synopsys的物理部署解决方案率先启动了45纳米的流片。

    IC Compiler 2007.03版即将出货。