蔡力行：未来10到15年半导体产业年成长8%
2006-09-16 13:55:18
来源：半导体器件应用网
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台积电今天在新竹市举办「2006年供应链管理论坛」，总经理暨总执行长蔡力行致词表示，未来10到15年半导体产业将维持8%年成长，未来支撑半导体产业成长的动能将来自消费电子的3C产品和低价计算机，期望与供货商朝共同目标努力，共享供应链整合所带来的竞争优势。
今年论坛的主题为「承诺携手迈向成功未来」(Commitment to Future Success) ，蔡力行表示，长期以来供货商对台积公司鼎力支持及双方所建立的紧密伙伴关系，是台积电能够在半导体产业中保持领先地位，不可或缺的重要因素之一。
蔡力行指出，未来10年到15年半导体产业将维持8%的年成长，未来支撑半导体产业成长的动能将来自消费电子的3C产品和低价计算机，期望与供货商朝向共同目标努力，共享供应链整合所带来的竞争优势。
蔡力行指出，未来，台积电将持续深化在专业集成电路制造服务领域的领先地位，并在供货商开发出更具成本效益与效率的设备、零配件及材料的时候做出贡献，以持续增加双方在专业领域上的竞争力，共同携手迈向成功未来。
这项活动有超过 350位来自全球半导体业界的设备、原物料、封装、测试、厂务、信息系统与服务、进出口服务、环保及废弃物处理等供货商共同参与，台积电也颁发「最佳设备奖」及「最佳原物料奖」给优良供货商，以感谢它们过去一年对台积电的支持与杰出贡献。
11家获奖厂商中，7家获颁「最佳设备奖」、4家获颁「最佳原物料奖」。
得奖名单如下：「最佳设备奖」: 最佳闸极氧化设备奖 (GateOxidation):美商应用材料 (Applied Materials，Inc.)最佳酸槽洗净设备奖(Wet Clean):迪恩仕科技 (Dainippon Screen MFG. Co.， Ltd.)最佳电子束检验设备奖 (E-Beam Inspection):汉民微测 (HermesMicrovision Inc.)最佳炉管设备奖 (Furnace):日立国际电气 (Hitachi Kokusai Electric Inc.)。
最佳缺陷检验设备奖 (Defect Inspection):美商科磊 (KLA-Tencor Corporation) 最佳化学气相沉积设备奖 (CVD):美国诺发系统 (Novellus Systems Inc.)最佳蚀刻设备奖 (Etch):东京威力科创 (TokyoElectron Ltd.)。
「最佳原物料奖」: 最佳气体奖 (Gases):三福气体 (Air Products San Fu Co.， Ltd.) 最佳化学品奖(Chemicals):巴斯夫电子材料 (BASF ElectronicMaterials Taiwan)最佳硅晶圆奖 (Silicon Wafers):上睦可 (SUMCO Corporation)最佳光阻奖项(Photoresists): 东京应化工业 (Tokyo Ohka KogyoCo.， Ltd.)。
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