台积电0.18微米工艺开放登陆 掌声稀落
2007-03-24 09:15:35
来源：半导体器件应用网
据DigiTimes网站报道，台湾当局20日中午正式通过台积电在2007年初申请的0.18微米工艺登陆案，此举虽有助于台积电在大陆地区的市场竞争力，并同步嘉惠其它台系DRAM大厂。台积电指出，随0.18微米工艺的开放登陆，公司上海松江厂未来将拥有0.18微米、0.25微米及0.35微米的工艺服务内容，有助拓展台积电在大陆市场占有率。
不过，相较于中芯国际90纳米工艺技术渐成气侯，客户群及产品种类也越来越多，加上日前英特尔（Intel）也已宣布将在大陆地区投资兴建12英寸厂，并将自90纳米工艺技术开始切入，并一路演进至65纳米工艺后，台积电即使0.18微米顺利登陆案，在大陆市场仍将是拿着大刀拚机枪的局面。
虽然市场竞争情形如此现实，但对于0.18微米工艺终于开放登入，台积电仍乐观指出，这对公司在大陆地区提供符合客户所需要的制造服务，还是有极大帮助，并相信可以争取到更多的订单，同时扩大台积电的市占率。另一方面，台积电也将依照既定计划持续扩大在台湾12英寸晶圆厂的投资，并不断朝65纳米、45纳米、32纳米工艺等全球最领先的工艺技术迈进。
台积电董事长张忠谋日前才针对英特尔有意前往大陆设立12英寸晶圆厂发表看法，认为英特尔大陆厂至少需2～3年才可望正式投入生产，对台积电虽然直接影响有限，不过，在英特尔决定大陆厂将以90纳米工艺技术切入生产后，其领先台积电大陆厂逾2个世代工艺技术的情形，仍是不争的事实，甚至有可能落后的情形越来越多。
张忠谋还进一步推估，由于2年后，英特尔最先进技术将可望推进至32纳米工艺，届时英特尔大陆厂则有能力引进65纳米工艺技术量产。虽然20日台积电0.18微米工艺申请案终于通过的利多消息，仍有激励公司股价全场维持红盘的效应出现，不过，在法人都已知道0.18微米工艺在大陆市场早已难成气侯，加上投资人也透过媒体知道，晶圆代工主战场早已移往纳米世代后，0.18微米工艺的开放案，似乎只证明在效率市场中，永远都还是会有没效率的事情发生。
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