IBM等4公司宣布45nm工艺制造的电路正常动作
2006-09-20 14:07:09
来源：半导体器件应用网
IBM、新加坡特许半导体制造（Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.）、德国英飞凌科技（Infineon Technologies AG）、韩国三星电子宣布，采用联合开发的45nm低耗电工艺生产的电路已首次投入工作（发布资料）。同时还宣布，可提供面向该工艺的设计工具包。
该电路用于新一代通信系统。利用位于纽约州East Fishkill的IBM 300mm生产线生产。该电路使用的标准单元和I/O单元由英飞凌科技开发。调试电路也由英飞凌科技开发。另外，嵌入内存块由4公司联合开发。
2007年底前特许半导体制造、IBM和三星3家公司的生产线将采用45nm工艺，并进行评测。4家公司在发布资料中对该工艺做了评论。与65nm工艺相比，性能约提高30%，除工艺本身的这种优势外，还指出了协调体制带来的兼容GDS-II掩膜布局设计数据的意义。
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